Nonlinear LBO Crystal

赤外線反射体および窓用材料シリコン(si)

シリコン(si)は、チョクラルスキー引上げ法(cz)によって成長し、9ミクロンの吸収帯を引き起こす酸素を含みます。これを避けるために、材料は浮遊帯(fz)法によって調製することができる。

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製品の詳細

光学シリコンは一般に、10ミクロンを超える最良の透過率のために低濃度にドープされ(5〜40オームcm)、そしてドープは通常ホウ素(P型)およびリン(N型)である。ドーピング後に、シリコンは、30から100ミクロンのさらなる通過帯域を有し、これは、非常に高い抵抗率の非補償材料においてのみ有効である。 CZシリコンは、1.5〜8ミクロン領域の赤外線反射体および窓用の基板材料として一般的に使用されている。 9ミクロンの強い吸収帯は、CO2レーザー透過用途には適していませんが、高い熱伝導率と低い密度のためにレーザーミラーによく使用されます。窓、レンズとしての応用1.5 - 8μm領域。 CO 2レーザおよび分光計用の鏡


物理的 d optia l プロパティ:

クリスタルクラス
キュービック
格子定数
a =5.43Å
融点
1417℃
モース硬度
7
伝送帯域
1.5〜8μm
密度
2.329g / cm 3
ヤング率
130.91 GPa @ 40℃
熱伝導率
1.63W / cm / K
比熱
0.18cal / g / K @ 25℃
熱膨張
2.6×10-6 /℃@ 20℃


仕様:


素材:
Si
寸法公差:
+ 0.0 / -0.1mm
厚さの公差:
±0.1mm
表面品質:
60/40
開口数をクリア:
> 85%
平坦度:
λ/ 2 @ 633nm
並列処理:
3 '



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